HORIBA数字式液体质量流量计LF/LV系列：控制多种液体流量的高性能方案

2025-08-23 17:55

随着半导体技术朝向更高密度、更复杂结构不断推进，液体材料在制程中的应用范围持续扩大，特别是在300nm及以下的晶圆工艺中，对液体流量控制的精度和洁净度提出了更高要求。HORIBA堀场基于多年流体测量技术积累，推出LF/LV系列数字式液体质量流量计，专为低沸点、高粘度等复杂液体场景设计，满足现代制造业对高精度液体输送与控制的实际需求。

多种工艺兼容的流量计平台

LF-F与LV-F两款型号均采用数字式控制架构，支持在冷却测试方式下对液体流量进行精密测量与稳定控制。其内部采用超洁净材质处理，适配洁净室环境，符合RoHS环保标准，非常适合对工艺安全性和材料洁净度要求极高的半导体与电子制造业。

  • LF-F型号：强调检测功能，适合流量采集与过程监控；

  • LV-F型号：主打控制功能，适用于流量反馈闭环系统。

二者均支持超低流量等级下的稳定操作，适配小剂量液体注入、气化等复杂制程需求。

精准应对低沸点与高粘度液体的挑战

在传统流量计难以精准控制的液体类型中，HORIBA LF/LV系列展现出显著优势：

  • 能够精确检测与控制高粘度液体，在传统流量方案中难以实现的场景下依旧表现稳定；

  • 适用于低沸点液体，保障在较低温条件下的气化及注入效率；

  • 内部流体路径经过特殊优化，有效降低对液体性质变化的敏感度。

这使得LF/LV系列在半导体、OLED、化学气相沉积、电子化学品输送等场景中得到广泛应用。

抗压设计与超洁净结构，保障设备运行安全

德彩网7999流体系统的稳定运行离不开对极端条件的适应能力。该系列具备优良的机械强度与抗压能力：

  • LF-F抗压性能高达10MPa，适配高压供液系统；

  • LV-F抗压能力为1MPa德彩网7999，适用于中等压力的稳定控制场景；

  • 所有型号均采用超洁净通道与严选材质，防止颗粒污染与金属析出。

这些特点大幅降低制程污染风险，同时延长设备维护周期，提升工艺良率。

应用于完整液体源汽化系统，适配自动化产线

HORIBA不仅提供单一流量计产品，更构建起完整的液体源汽化控制系统（LIQUID SYSTEM），包括：

  • 加热蒸发系统：适用于热敏感材料气化；

  • 直接注入系统：简化控制流程，适配闭环反馈；

  • 混合注入方式：多种液体同时输送，提高制程效率。

LF/LV数字式液体质量流量计作为核心组件，保障流量调节的实时性与稳定性，配合自动供液装置，可显著减少人工操作德彩网7999，提升产线自动化水平。

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