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HORIBA MV-2000 系列混合注入系统液体汽化器介绍与参数信息

HORIBA MV-2000 系列混合注入系统液体汽化器产品概述

MV-2000 系列液体汽化器由 HORIBA 开发，采用创新的螺旋流加热技术，能够在低温条件下稳定地将液体原料汽化处理，特别适用于半导体制造过程中“High-k”工艺液体等难处理源的精准汽化。该系列支持高流量应用，具备良好的耐腐蚀性能及高密封性，适用于多种腐蚀性液体（除 HCl、HF）之外的液体源。

HORIBA MV-2000 系列混合注入系统液体汽化器功能与特点

• 应用螺旋流加热方法，实现稳定、连续的低温汽化；
• 支持大流量处理，适配高产线需求；
• 适合热解敏感性液体源的汽化场景；
• 高密封性能，整体泄漏率 ≤ 1×10⁻⁶ Pa·m³/s（He）；
• 耐腐蚀结构，接液部件采用 SUS316L 与 PFA 材质；
• 多种标准接口配置，便于集成至多种系统平台；
• 可选配更高密封等级的气阀（内漏标准 ≤ 1×10⁻⁹ Pa·m³/s）；
• 转换器内置温度感测与加热控制单元，实现智能温控；
• K型热电偶（CA）温度传感器，确保热稳定性；
• 工作温度范围广（15–50℃），适用于多种环境需求。

HORIBA MV-2000 系列混合注入系统液体汽化器技术参数（核心信息摘选）

• 液体材料：除 HCl、HF 外的常规腐蚀性液体
• 设置温度：控制阀：最大140℃，蒸发器：最大200℃
• 泄漏完整性：≤ 1×10⁻⁶ Pa·m³/s（He）
• 内部泄漏标准：≤ 1×10⁻⁶ Pa·m³/s（He）（可选 ≤ 1×10⁻⁹ Pa·m³/s）
• 潮湿部件材质：SUS316L、PFA
• 温度传感器：K型热电偶（CA）
• 耐压性：1 MPa（表压）
• 接口配置：液体入口：1/8 VCR 公母载气口；气体出口：1/4 / 1/2 VCR
• 工作温度：15–50℃

HORIBA MV-2000 系列混合注入系统液体汽化器典型应用场景

• 半导体前道/后道制程中的液体源气化供给系统
• ALD、CVD 工艺中含腐蚀性液体的精准输送与汽化
• 光电材料、化合物半导体、高端封装等工艺线体配套汽化单元
• 实验室或工艺开发阶段的高精度液体气化测试设备